塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
暫無信息 |
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-26 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：主要特長采用獨自的平行調(diào)整機構(gòu),能夠高精度地設(shè)定掩膜與Wafer間的近接間隙。利用獨自的高速圖像處理技術(shù),實現(xiàn)高精度的對位。利用圖像處理技術(shù),使預(yù)對位...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-24 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：主要特長利用本公司開創(chuàng)的高速圖像處理技術(shù), 實現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對位。裝載機側(cè)和卸載機側(cè)*多可設(shè)置兩個籃具（選購項）。備有冷卻機構(gòu)，可進行基...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-23 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：主要特長搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學(xué)系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。采用本公司開創(chuàng)的同軸對位方式和高速圖像處理...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：主要特長采用獨自的鏡面?鏡頭光學(xué)系統(tǒng),實現(xiàn)**均勻的照射。配備有可設(shè)定非接觸?面內(nèi)均一間隙的間隙傳感器和對應(yīng)多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對位臺的對位...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-16 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡單介紹：主要特長除近接曝光外，還可對應(yīng)接觸曝光(軟接觸和硬接觸)可對應(yīng)幅度為500mm以上的大型膠片。采用獨自的光學(xué)系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-15 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
德國MN PF-12 Plus 多參數(shù)水質(zhì)分析儀
德國MN-PF-12 Plus ￥15000
哈希Surface Scatter 7sc 高量程在線濁度儀
HACH-2977200 ￥10000智能制造網(wǎng) 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
